塑料镀铝机|选购高性价硬质膜镀膜设备就选恒誉真空， 肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司汇集众多人才，组建高素质人才队伍，于2012-07-23创立，现坐落在肇庆市高要区金渡镇世纪大道交警中队西侧。公司主营硬质膜镀膜设备，成熟、精巧的工艺，完善、严格的管理制度，为硬质膜镀膜设备的制造增添一份有力保障。凭借完善的管理体系、雄厚的技术力量以及成熟生产设备，恒誉真空的产品深受需求群体的信赖，用户反馈良好。

恒誉真空强化竞争意识，营造团队精神。采取机械和行业设备专用配件行业中的傲人成绩，创造了同行业中的商业奇迹，这当然源于公司对产品质量的不懈追求，力求将有品质且具有能在各种五金件表面镀制各种颜色的装饰性膜层用途的硬质膜镀膜设备奉献给广大客户群众。

硬质膜镀膜设备是恒誉真空重要推广的产品，也是销售形势较好的产品。恒誉真空采用批发;零售;的方式进行市场开拓。“顾客至上，改革求实，以人为本，团结进取”是我司践行的公司文化。如您参与我司业务合作，可采用银行转账的方式付款，我们还提供产品售出后质保一年的售后服务。

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平衡态磁控阴极内外磁钢的磁通量大致相等，两极磁力线闭合于靶面，很好地将电子/等离子体约束在靶面附近，增加碰撞几率，提高了离化效率，因而在较低的工作气压和电压下就能起辉并维持辉光放电，靶材利用率相对较高，但由于电子沿磁力线运动主要闭合于靶面，基片区域所受离子轰击较小.非平衡磁控溅射技术概念，即让磁控阴极外磁极磁通大于内磁极，两极磁力线在靶面不完全闭合，部分磁力线可沿靶的边缘延伸到基片区域，从而部分电子可以沿着磁力线扩展到基片，增加基片区域的等离子体密度和气体电离率.不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。

旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体，和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，同时接地技术很复杂，因而难大规模采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入氩气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。磁控反应溅射绝缘体看似容易，而实际操作困难。

主要问题是反应不光发生在零件表面，也发生在阳极，真空腔体表面，以及靶源表面。从而引起灭火，靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术，很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极，从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是源（磁控，多弧，离子）所必需，因为能量很大一部分转为热量，若无冷却或冷却不足，这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。

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