镀膜机定制|肇庆实惠的直流磁控濺射镀膜设备_厂家
所在地:广东省肇庆市
联系人:宋生
价格:面议
品牌:恒誉,,,,
发布时间:2025-01-16
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镀膜机定制|肇庆实惠的直流磁控濺射镀膜设备_厂家, 肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司成立于2012-07-23,是一家机械和行业设备专用配件各类产品,其中直流磁控濺射镀膜设备为公司主导产品。凭借成熟的生产设备及可靠的经营管理模式,公司产品以有品质、高价值销售于全国;广东,深受中小企业的欢迎。
由我公司自主生产的直流磁控濺射镀膜设备,是经机械和行业设备专用配件行业专家鉴定后评定为的产品,享誉业界。我们坚持公司内部建立的任何组织,流程,制度都建立在为客户提供更良好的服务的基础上,为了让客户能够快速的收到货物,我们采取的是陆运;公路运输的物流方式进行配送,在全国;广东拥有众多客户。
正视挑战,增强信心,创造辉煌。在成功取代传统制造工业的同时,满足了现代生产效率,高稳定性和可靠性的精微加工的要求。恒誉真空俨然成为一家成熟的直流磁控濺射镀膜设备生产企业,供应的直流磁控濺射镀膜设备受到广大中小企业的一致好评,产品在通过磁控溅射的方法能在工件表面镀制各种金属,或其化合物膜层,以达到改变其光电磁性能或起到装饰性功效拥有良好的表现。
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磁控溅射
磁控溅射是物理中气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
磁控溅射定义
在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场,借助于靶表面上形成的正交电磁场,把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率,增加离子密度和能量,从而实现高速率溅射的过程。
磁控溅射原理
磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电子会受到电场和磁场作用,产生E(电场)×B(磁场)所指的方向漂移,简称E×B漂移,其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场,则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动,它们的运动路径不仅很长,而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内,并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材,从而实现了高的沉积速率。
随着碰撞次数的增加,二次电子的能量消耗殆尽,逐渐远离靶表面,并在电场E的作用下最终沉积在基片上。由于该电子的能量很低,传递给基片的能量很小,致使基片温升较低。磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程,和靶原子碰撞,把部分动量传给靶原子,此靶原子又和其他靶原子碰撞,形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量,离开靶被溅射出来。
磁控溅射种类
磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。
靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源镀膜均匀,非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜,非平衡多用于磨损装饰膜。磁控阴极按照磁场位形分布不同,大致可分为平衡态和非平衡磁控阴极。
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