镀膜设备定制_规模大的直流磁控濺射镀膜设备公司
所在地:广东省肇庆市
联系人:宋生
价格:面议
品牌:恒誉,,,,
发布时间:2025-01-11
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镀膜设备定制_规模大的直流磁控濺射镀膜设备公司, 肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司成立于2012-07-23,是一家机械和行业设备专用配件各类产品,其中直流磁控濺射镀膜设备为公司主导产品。凭借成熟的生产设备及可靠的经营管理模式,公司产品以有品质、高价值销售于全国;广东,深受中小企业的欢迎。
恒誉真空产品质量可靠,价格公道,每一个出库的直流磁控濺射镀膜设备都要经过严格质量检测,达到质量标准才可以出厂。高标准,精细化,零缺陷,是企业对职工的基本要求。当中小企业与我公司签订订单后,您需要注意我司指定的付款方式为银行转账,临时有变动的情况下,我们会及时与您取得联系。
恒誉真空拥有高素质技术人员,以及强大的销售团队。以企业综合实力为基础,建立现代化率机制,不断加强企业管理,提高经营效益生产直流磁控濺射镀膜设备,产品质量保证,经久耐用,具有通过磁控溅射的方法能在工件表面镀制各种金属,或其化合物膜层,以达到改变其光电磁性能或起到装饰性功效的用途。我司树立“好服务是生命,企业满意是目的”的服务原则,在全国;广东深受广大中小企业的认可与好评。
镀膜设备定制,
磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。
靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源镀膜均匀,非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜,非平衡多用于磨损装饰膜。磁控阴极按照磁场位形分布不同,大致可分为平衡态和非平衡磁控阴极。平衡态磁控阴极内外磁钢的磁通量大致相等,两极磁力线闭合于靶面,很好地将电子/等离子体约束在靶面附近,增加碰撞几率,提高了离化效率,因而在较低的工作气压和电压下就能起辉并维持辉光放电,靶材利用率相对较高,但由于电子沿磁力线运动主要闭合于靶面,基片区域所受离子轰击较小.非平衡磁控溅射技术概念,即让磁控阴极外磁极磁通大于内磁极,两极磁力线在靶面不完全闭合,部分磁力线可沿靶的边缘延伸到基片区域,从而部分电子可以沿着磁力线扩展到基片,增加基片区域的等离子体密度和气体电离率.不管平衡非平衡,若磁铁静止,其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率,可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构,同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备,多用磁场静止靶源。用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶(阴极),等离子体,和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵,溅射速率很小,同时接地技术很复杂,因而难大规模采用。为解决此问题,发明了磁控反应溅射。就是用金属靶,加入氩气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化,与反应气体化合生成氮化物或氧化物。磁控反应溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面,也发生在阳极,真空腔体表面,以及靶源表面。从而引起灭火,靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术,很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极,从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是源(磁控,多弧,离子)所必需,因为能量很大一部分转为热量,若无冷却或冷却不足,这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。
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