恒誉真空-肇庆质量较好的蒸发式卷绕镀膜设备_厂家
所在地:广东省肇庆市
联系人:宋生
价格:面议
品牌:恒誉,,,,
发布时间:2025-01-07
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肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司拥有一支经验丰富、实力过硬的生产销售队伍,专注于蒸发式卷绕镀膜设备的生产和研发,自成立以来,始终把客户的利益放在靠前,不断引进吸收国内外同行的设计理念和制造技术,在机械和行业设备专用配件行业中成绩显著,并积极为客户开发低成本,高生产效率,满足客户需要的新产品。公司立志为广大需求群体提供优异的蒸发式卷绕镀膜设备产品,始终坚持诚信和互惠原则,坚持用真诚的服务去打动客户。
多年来,我公司以市场为导向,不断开发新蒸发式卷绕镀膜设备,以适应时刻变化的市场和广大用户的需要。生产的产品主要以批发;零售;面向全国;广东、肇庆供应。我司相信没有品质,便没有企业的明天,采用陆运;公路运输发送货物,以质优、价廉、工期短、售后服务周到赢得广大用户的信赖。
恒誉真空,
磁控溅射是物理中气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
磁控溅射定义
在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场,借助于靶表面上形成的正交电磁场,把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率,增加离子密度和能量,从而实现高速率溅射的过程。
磁控溅射原理
磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电子会受到电场和磁场作用,产生E(电场)×B(磁场)所指的方向漂移,简称E×B漂移,其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场,则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动,它们的运动路径不仅很长,而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内,并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材,从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加,二次电子的能量消耗殆尽,逐渐远离靶表面,并在电场E的作用下最终沉积在基片上。由于该电子的能量很低,传递给基片的能量很小,致使基片温升较低。磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程,和靶原子碰撞,把部分动量传给靶原子,此靶原子又和其他靶原子碰撞,形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量,离开靶被溅射出来。
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